台湾奇晶光电（Chi Mei EL技术

台湾友达光电(AU Optronics，AUO)发布了用 片掩膜形成TFT阵列的工艺（演讲序号：24.1）。采用半色调掩膜（Half Tone Mask）与剥离（Lift Off）法，仅用一片掩膜就实现了钝化层(Passivation Layer)的开口与ITO图案的形成。并采用此工艺试制出了1.8英寸TFT液晶面板。

该技术的关键在于将4片掩膜工艺的钝化层（第 片）与ITO层（第4片）两个工序用半色调掩膜（HTM）合并为一个。而ITO图案的形成则采用了剥离法。

首先，使用HTM在钝化层打出与周边焊盘相接的开口。然后，对光刻胶进行灰化（Ashing）处理，使形成ITO图案的像素部分曝光。并在形成ITO膜以后，采用剥离方法将光刻胶剥离，除去不需要的ITO层。

此次发布的关键点是，为了促使ITO层剥落，采用了准分子激光对光刻胶上的ITO层进行预剥离的方法。提高照射的准分子激光的能量，光刻胶上的ITO会剥离，从而可减轻后续的光刻胶剥离工序的作业负担。

通过以激光剥离ITO层的工序，可大幅度缩短剥离所需时间。另外，还能够解决因ITO膜混入去除的光刻胶而造成剥离装置维护周期缩短的问题。

此次AUO采用这种 片掩膜工艺试制出了1.8英寸彩色TFT液晶面板。试制面板的像素为128×160，子像素尺寸为7 μm×129μm。

更详细信息，请访问：http://china.nikkeibp.co.jp/china/news/flat/flat200805280128.html山西癫痫病专科医院

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